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ETRI・KAIST、米企業と次世代半導体の素材部品開発に向け協力
作成日
2022.12.15
ヒット
147


 


(大田=聯合ニュース)キム・ジュンホ記者=韓国電子通信研究院(ETRI)と韓国科学技術院(KAIST)によると、グローバル素材部品メーカーの米コヒレント(Coherent)と次世代半導体の素材部品技術開発およびグローバル産業化に向けた業務協力(MOU)を締結したと9日に明らかにした。

この3機関は未来自動車と光通信基盤の第6世代(G)未来通信分野に活用される環境配慮型低炭素半導体技術とグローバル技術産業化のための産学研共同研究プロジェクトの開発に取り組むことになる。

また光素子とシリコンカーバイド(SiC)半導体電力素子の国際共同研究を展開し、共同研究遂行プロジェクトのアイテム発掘、人材交流、機関間セミナー、技術情報交流、技術商用化にも協力することにした。

1966年に設立された同社の昨年の売上高は31億ドル(約4兆346億ウォン)に達し、2千200個以上の技術特許を保有している。

今回のMOU締結は今月8日、韓国の産業通商資源部と韓国産業技術振興院(KIAT)の主管で米ワシントンDCJWマリオットで開催された「韓米技術協力フォーラム」特別セッションで行われた。

kjunho@yna.co.kr

原文記事
出所:聯合ニュース(2022.12.9)

**本内容は上記のウェブ版に掲載されている記事を訳したものです。