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(株)NEXTIN(ネクスティン)は半導体素子の回路製造工程(前工程；wafer process)で発生するパターン欠陥や異物を検出するウェーハパターン欠陥検査装置(wafer inspection system)を製造、販売する韓国唯一の半導体計測検査(metrology and inspection)装置の専門技術企業です。

半導体製造工程の中で前工程分野は後工程(package process)に比べて国産化率が非常に低く、特にパターン欠陥検査装置については外国産装置のみが市場に供給されていることから独占・寡占の弊害が発生し、このような装置技術を国産化する必要性が台頭しました。そこで、韓国の半導体産業の発展に貢献すべく研究開発を始めることになりました。

当社の装置は明視野検査と暗視野検査のための光学構成を一つの装置内で実現し、明視野検査と暗視野検査の中から望む検査を選択して行うことができる複合構成装置(Combo-system)です。使用目的に応じて明視野または暗視野に光路を設定することで最大の検査感度が提供されます。

現在販売している装置は「AEGIS-DP」、「AEGIS-II」です。半導体素子製造工程の中で半導体回路を形成する前工程において発生する微小パターン欠陥(Pattern Defect)や異物(Particle)を光学イメージ比較方式で検出する装置で、半導体素子メーカーの単位工程技術の開発及び歩留まりの向上に役立ちます。

AEGIS装置は大面積の光を多数のCMOSセンサーで空間的に分割する世界初の2次元イメージング技術基盤の装置で、最新のイメージプロセッシング技法であるディープラーニング基盤のイメージ比較アルゴリズムを適用し、最高の検出感度を提供します。

それに、世界最高の半導体素子メーカーである米国のインテル社と協力して3次元半導体製造工程に適用可能なスルー焦点走査光学顕微鏡(TSOM)方式の技術を開発し、2021年2月に米国のシリコンバレーで開催された国際光工学会(SPIE)で共同論文を発表しました。今後3次元素子の垂直構造物で発生するパターン欠陥を検出する装置を世界で初めて開発し、3次元素子製造工程の歩留まりの向上に大きく貢献するものと予想されます。

半導体前工程向けの光学微小パターン欠陥検査装置は世界でも米国のKLA社とAMAT社のみが生産している、技術的に非常に敷居の高い分野です。当社は次世代半導体工程技術の研究をリードするドイツのフラウンホーファー研究所と協力し、2014年、世界で3番目に試作品の開発に成功しました。半導体前工程向けのパターン欠陥検査技術は偵察衛星の技術と非常に類似しており、KLA社とAMAT社は偵察衛星技術の先進国であるイスラエルに研究所を保有しています。当社も2012年11月、韓国の中小企業の中では唯一、イスラエルにイメージプロセシング研究所を設立して運営しています。当社は2014年から産業通商資源部が主管する未来素子源泉技術開発事業を後援し、韓国の技術人材養成に力を入れています。当社の製品はメモリ製造技術をリードするサムスン電子とSKハイニックスから性能認証を、CIS製造技術をリードするサムスン電子から性能認証を受けており、技術標準として位置付けられています。

また、競合装置と同じ水準の性能を提供しており、高い価格競争力に基づいてDRAMメーカー、フラッシュメモリメーカー、Logic ICメーカー、ファウンドリー会社など多様な顧客会社を確保しています。海外輸出の割合が売上総額の60%以上を占める安定的な売上構造を持っています。

世界最高の半導体素子メーカーである米国のインテル社との緊密な協力を通じて次世代半導体製造技術である3次元工程に適合した検査装置を開発しており、Deep UV光源を採用して検査の感度を画期的に改善した次世代検査装置の開発も同時に進めています。世界最大の半導体装置市場である中国でジョイントベンチャーの設立を進めており、これを通じて中国での市場シェアを上げることができると期待しています。 企業の社会的責任を果たすために半導体生態系の発展に向けた人材養成事業を積極的に支援しており、社会への寄付活動も積極的に行っています。